Medición de temperatura de obleas cableadas in situ

Las obleas instrumentadas se utilizan en equipos de procesamiento de semiconductores donde es fundamental comprender y controlar la temperatura en la superficie de la oblea.

El sistema de medición de temperatura de obleas cableadas in situ NTC Wafer proporciona métodos de medición y monitorización de la temperatura de las obleas de alta precisión y fiabilidad para mejorar el rendimiento, la calidad y la productividad de los equipos de procesamiento.

Las obleas instrumentadas se utilizan en equipos de procesamiento de semiconductores donde es fundamental comprender y controlar la temperatura. atla superficie de la oblea.Oblea TC in situWirad Ttemperatura Mmedición SLos sistemas son comúnmente usado para aplicaciones tales como procesamiento térmico rápido (RTP), recocido térmico rápido (RTA), horneado posterior a la exposición (PEB), deposición química de vapor (CVD), deposición física de vapor (PVD), ION implantación, células solares y muchos otros procesos impulsados ​​por calor.