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Las soluciones de monitoreo de procesos in situ de ZHICE-ELEC brindan a los ingenieros la capacidad de visualizar, analizar y gestionar las complejidades de las condiciones de manipulación de procesos y obleas, garantizando un control y una eficiencia óptimos. Nuestros sensores de temperatura de precisión de ≤10 mK, transmisores y termómetros multicanal, junto con nuestros sistemas de medición de temperatura de oblea TC/RTD/NTC, monitoreo inalámbrico de temperatura de oblea, medición de temperatura de máscara y tanques de control de temperatura MOCVD, han obtenido una amplia aceptación y utilización dentro industria de semiconductores, estableciendo un nuevo estándar para la excelencia en el control de temperatura.

  • Las obleas instrumentadas se utilizan en equipos de procesamiento de semiconductores donde es fundamental comprender y controlar la temperatura en la superficie de la oblea.
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  • El sistema de medición de temperatura de obleas cableadas in situ de obleas NTC proporciona métodos confiables y de medición de temperatura de obleas de alta precisión para mejorar el rendimiento, la calidad y el rendimiento del equipo de proceso.
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  • Las obleas instrumentadas se utilizan en equipos de procesamiento de semiconductores donde es fundamental comprender y controlar la temperatura. at la superficie de la oblea.Oblea TC in situ Wenojado Ttemperatura Mmedición Slos sistemas son comúnmente usado para aplicaciones tales como procesamiento térmico rápido (RTP), recocido térmico rápido (RTA), horneado posterior a la exposición (PEB), deposición química de vapor (CVD), deposición física de vapor (PVD), ION implantación, células solares y muchos otros procesos impulsados por calor.
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  • 1. Sensor NTC de precisión;2. Aspirar a través de la brida;3. Termómetro multicanal de precisión;4. Software de adquisición y análisis de temperatura DAQ TEMP.
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  • El sistema de medición de temperatura de máscara (VTMS) in situ se utiliza para monitorear y verificar la temperatura durante la escritura de la máscara de haz de electrones. Dado que la escritura con haz de electrones en las máscaras requiere una estabilidad de temperatura extremadamente alta durante períodos prolongados, el VTMS recopila continuamente datos de temperatura para proporcionar la información necesaria para garantizar la estabilidad térmica del sistema de máscara.
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